LightCraft 局部调整实战指南：蒙版、画笔与亮度范围这样用

LightCraft 局部调整实战指南：蒙版、画笔与亮度范围这样用

【免费下载链接】lightcraftLightCraft: An open-source non-destructive photo editor written by scratch in pure Rust项目地址: https://gitcode.com/gh_mirrors/li/lightcraft

用 LightCraft 做局部调整，核心是它的蒙版系统：你可以用画笔涂抹、拖出线性或径向渐变，也可以按亮度范围、颜色范围自动圈出区域，再对选区做 17 项局部参数调整。本文按"选区方式 -> 组合 -> 精修 -> 调参"的工作流组织，讲清每种蒙版什么时候用、入口在哪、参数怎么调，以及选区不准时如何补救。

上图是 README 中的示例：湖面场景上叠了一个线性"Sky"蒙版和一个径向"Sun glow"蒙版（色温 +40、曝光 +0.50），两个选区各自独立调参，互不干扰。

面板里有什么：10 个创建磁贴与蒙版列表

在编辑视图（Detail）下按M打开蒙版面板，顶部是 10 个"创建新蒙版"磁贴，按选区原理分成三类：

创建磁贴的点击逻辑在 crates/ui-egui/src/panels/masking.rs 中，磁贴列数会随面板宽度自适应。

面板下方是蒙版列表：

• 每行带"眼睛"图标，可以随时隐藏某个蒙版对比效果；
• 悬停选中某行后，面板底部展开该蒙版的组件行、局部参数滑块和 Refine Edges；
• 右键菜单支持复制蒙版、复制并反相、反相、隐藏、上移/下移、重命名和删除。

画笔：把涂抹控制在相似区域内

点 Brush 磁贴后进入画笔模式，面板底部出现参数区，三个核心滑块：

• Size：笔刷直径。编辑视图下用[/]快速缩放，Shift+[/Shift+]调整羽化（见 docs/library-shortcuts.md）；
• Feather：边缘软硬度，人像修饰建议拉高，让过渡看不见接缝；
• Flow：单次涂抹浓度，低流量适合多层叠加的渐进修饰。

涂错的地方不用撤销：切换 Erase 模式直接擦掉笔触，涂抹和擦除都作用于同一个画笔组件。

Auto Mask 是最值得开启的选项。勾选后，笔触只保留与笔尖下颜色相似的部分——给天空加光时，擦到山体的部分自动被挡住。原理在 crates/pipeline/src/masks.rs：每个笔触点按与中心颜色的相似度加权，再经亮度引导滤波收边，CPU 与 GPU 都能跑。

另外两个实用细节：

• Shift+点击会从上一笔的终点画一条直线笔触，适合快速勾出一条边界；
• 使用压感笔时（Windows 下已支持），笔压会同步缩放笔刷尺寸与流量。

线性与径向渐变：两条线解决 80% 的风景片

Linear Gradient适合"分界线式"调整：天空压暗、地平线以上加去雾。点击磁贴后在画面上拖一条直线，两侧各有一个图钉，选中后可自由拖动改变位置、角度与羽化范围。

Radial Gradient适合圆形光晕、暗角或聚焦中心主体：拖出一个椭圆即可，主体和中心图钉可平移，边缘握点缩放，外围握点旋转；反相后选的是"椭圆之外"。

两个工具都能显示图钉：蒙版面板的 Overlay 区域勾选Show Pins（跟随 Tool Overlay 模式自动显示/隐藏），反复微调位置时不用重新拖。

对上图这类湖山风光，一个典型流程是：Linear 选中天空压曝光，Radial 反相后做四周暗角聚焦湖面主体。

按属性选区：亮度范围与颜色范围

亮度范围：不用画就圈出高光和暗部

点 Luminance 磁贴，组件行里会出现一条从左（暗）到右（亮）的渐变条，操作分三步：

1. 拖动两个白色手柄圈定区间——想要暗部就压在左半段，想要高光就拉到右半段；
2. 调Smoothness让区间边界柔和过渡，避免选中边缘出现硬线；
3. 勾选Show Luminance Map，照片变黑白、选中区域染上颜色，一眼确认圈中的范围。

亮度按感知尺度映射（约 −8 EV 至 +4 EV），边界用平滑曲线过渡，实现在 crates/pipeline/src/masks.rs 的LuminanceRange分支。

颜色范围：吸管点哪里就选哪里

点 Color 磁贴后画面进入吸管模式，界面会提示"Click the photo to pick a colour"：

• 单击取样一个颜色样本；
• **Shift+单击**追加样本，最多 5 个——比如一片蓝天取样两点，覆盖深浅不同的蓝；
• 调Refine滑块控制容差，数值越高选中的颜色范围越宽。

相似度在感知色彩空间中计算（color_range_sample，见 crates/pipeline/src/lib.rs），所以取样位置不必"选得准"，相近色都会一并进入选区。

组合选区：Add、Subtract、Intersect

一个蒙版可以包含多个组件，用三种方式组合，这几种运算的定义在 masks.rs 文件头注释：Add 取最大值（并集）、Subtract 为 a·(1−c)、Intersect 为 a·c（交集）。

选中某个蒙版后，用组件行下方的 Add / Subtract / Intersect 菜单再添加画笔或渐变组件即可。常用搭配：

• 天空蒙版 − 太阳位置（Radial），避免提亮时太阳过曝；
• Luminance（高光段）∩ Linear（地平线以上），压高光同时不动水面反光；
• Subject ∩ 亮度暗部段，只压暗主体的阴影侧。

选区不准时的三种补救

1. Invert 反相：整个蒙版黑白互换，方向选错一键救回。右键菜单还有"复制并反相"，正反两份同时保留，方便对比。
2. Amount 整体降档：0–200% 缩放蒙版效果。参数没问题的情况下，把 Amount 从 100% 降到 60% 左右，局部调整会立刻含蓄很多——这比逐个回退滑块更快。
3. Refine Edges 贴边：每个蒙版都有一个 Refine Edges 滑块（0–100）。它用引导滤波把蒙版软边缘"吸附"到照片自身的明暗边界上，窗口约为长边的 4%，对发丝、草地边缘这类锯齿状轮廓特别有效。拖动时效果实时更新（CPU 渲染）。

检查选区时用Overlay区域切换显示方式（彩色叠加、黑白底彩色、纯黑/纯白底等），按O开关叠加显示，Shift+O循环叠加颜色；Y做前后对比。

给选区套参数：17 项局部调整

每个蒙版下方都有一组独立的局部滑块：Temp、Tint、Exposure、Contrast、Highlights、Shadows、Whites、Blacks、Texture、Clarity、Dehaze、Hue、Saturation、Sharpness、Noise、Moiré、Defringe，外加 Amount。所有蒙版的调整会按顺序叠加，互不覆盖。

几个起步配方，数值从保守开始：

• 天空压暗：Linear 蒙版，Exposure −0.5、Temp −10、Dehaze +10；
• 暗部找回细节：Luminance（暗部段），Shadows +30、Black −10、Clarity +10，Amount 70%；
• 主体聚焦：Radial 反相，Exposure −0.4、Sharpen 不动，配合 Refine Edges 收边；
• 蓝天提纯：Color 吸管取样天空，Saturation +15、Temp +5，Refine 拉到刚好不波及树叶。

参数调过头的判断标准：关掉蒙版眼睛图标，再打开，如果观感跳变明显，先把 Amount 降一半。

快捷键速查

继续深入

• 蒙版与 Lightroom 的功能对照表：docs/parity-checklist.md 的 "K. Masking (MASK)" 章节，含每条功能的命令与证据路径；
• Object / Describe 智能选区基于 SAM 3 模型，安装与下载方式见 docs/ai-masks.md；
• 蒙版求值（各选区转 alpha 平面、组件组合公式）的完整实现：crates/pipeline/src/masks.rs。

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